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光刻機ASML CYMER光電模塊組件維修S111310

1：436nm g-line

可以滿足0.8-0.35 微米制程芯片的生產(chǎn)，對應設備有接觸式和接近式光刻機。

2：365nm i-line

同樣可以滿足0.8~0.35微米制程芯片的生產(chǎn)。設備于上相同。

早期的光刻機采用接觸式光刻，即掩模貼在硅片上進行光刻，容易產(chǎn)生污染，且掩模壽命較短。此后的接近式光刻機對接觸式光刻機進行了改良， 通過氣墊在掩模和硅片間產(chǎn)生細小空隙，掩模與硅片不再直接接觸，但受氣墊影響，成像的精度不高。

3：248nm KrF

工藝節(jié)點提升至350~180nm水平，在光刻工藝上也采用了掃描投影式光刻，即現(xiàn)在光刻機通用的，光源通過掩模， 經(jīng)光學鏡頭調(diào)整和補償后， 以掃描的方式在硅片上實現(xiàn)曝光。

4：193nm ArF

制程提升至65nm的水平。四代光刻機是目前使用廣的光刻機，也是具有代表性的一代光刻機。

5：13.5nm EUV

1-4代光刻機使用的光源都屬于深紫外光， 五代EUV光刻機使用的則是波長 13.5nm的紫外光。目前只有ASML有能力生產(chǎn)。

目前光刻機市場主要的光刻機供應商有荷蘭的ASML、日本的NIKON和CANON，以及中國的上海微電子裝備(SMEE)。

主營業(yè)務：提供維修服務

一、維修真空濺射鍍膜設備、等離子清洗設備、真空貼合機、設備上的電控部件:射頻電源、射頻器、靶材電源、高壓電源、微波電源、磁控濺射電源、中頻電源、高頻電源、遠程等離子體源、霍爾離子源、脈沖電源、直流電源、氧化源電源、特種電源、匹配器、膜厚儀等。

二、維修儀器設備:試驗機、檢測儀、分析儀、光度計、鐳射切割機、激光器等。

射頻電源設備主要服務于太陽能光伏、PVD鍍膜，半導體薄膜、離子注入、刻蝕，平板顯示，光盤、光電子LED等制造工藝以及科研院校、研究所等設備的高壓、直流、射頻電源。光刻機ASML CYMER光電模塊組件維修S111310，主要包括高壓電源HV PSU、射頻電源RFG、匹配網(wǎng)絡RF Match、直流電源DC POWER、微波發(fā)生器等，提供設備維修服務。